Pó de óxido de alumínio calcinado para plaquetas

Introdução à produção

O pó de polimento de alumina calcinada em placas é feito de pó de alumina industrial de alta qualidade como matéria-prima e processado por um processo de produção especial. O formato cristalino do pó de polimento de alumina produzido é hexagonal plano, tipo tabular, pelo que é designado por Alumina Plaquetária ou Alumina Tabular.

A pureza da alumina em placa é superior a 99% e apresenta características de resistência ao calor, resistência à corrosão ácida e alcalina e elevada dureza. Ao contrário das partículas esféricas abrasivas tradicionais, a superfície inferior da alumina plana é plana, e as partículas ajustam-se à superfície da peça de trabalho durante a retificação, o que produz um efeito de retificação deslizante, o que impede que os cantos afiados das partículas arranhem a superfície da peça de trabalho. Por outro lado, na moagem de placas de alumina, a pressão de moagem é distribuída uniformemente na superfície das partículas, as partículas não são facilmente quebradas e a resistência ao desgaste é melhorada, melhorando assim a eficiência de moagem e o acabamento superficial.

Para materiais semicondutores, como wafers de silício semicondutor, a aplicação de óxido de alumínio em placas pode reduzir o tempo de moagem, melhorar consideravelmente a eficiência da moagem, reduzir a perda da máquina de moagem, poupar mão-de-obra e custos de moagem e aumentar a taxa de aprovação da moagem. A qualidade é próxima da de marcas estrangeiras conhecidas.

A eficiência do trabalho de retificação do bolbo de vidro do tubo de imagem é aumentada em 3-5 vezes;

A taxa de produto qualificado é aumentada em 10-15%, e a taxa de produto qualificado de wafers semicondutores atinge mais de 99%;

O consumo de moagem é 40-40% inferior ao pó de polimento de alumina comum;

Composição química

Propriedades físicas

Tamanhos disponíveis

Aplicação do produto

1) Indústria eletrónica: retificação e polimento de wafers de silício monocristalino semicondutor, cristais de quartzo, semicondutores compostos (gálio cristalino, nano fosfatação).

2) Indústria vidreira: moagem e processamento de cristal, vidro de quartzo, ecrã de vidro para cinescópio, vidro ótico, substrato de vidro para ecrã de cristal líquido (LCD) e cristal de quartzo.

3) Indústria de revestimentos: revestimentos e cargas especiais para pulverização de plasma.

4) Indústria de processamento de metais e cerâmica: materiais cerâmicos de precisão, matérias-primas cerâmicas sinterizadas, revestimentos de alta qualidade e alta temperatura, etc.