Nome do produto: Alumina calcinada em placas
Introdução à produção
O pó de polimento de alumina calcinada em placas é feito de pó de alumina industrial de alta qualidade como matéria-prima e processado por um processo de produção especial. O formato cristalino do pó de polimento de alumina produzido é hexagonal plano, tipo tabular, pelo que é designado por Alumina Plaquetária ou Alumina Tabular.
A pureza da alumina em placa é superior a 99% e apresenta características de resistência ao calor, resistência à corrosão ácida e alcalina e elevada dureza. Ao contrário das partículas esféricas abrasivas tradicionais, a superfície inferior da alumina plana é plana, e as partículas ajustam-se à superfície da peça de trabalho durante a retificação, o que produz um efeito de retificação deslizante, o que impede que os cantos afiados das partículas arranhem a superfície da peça de trabalho. Por outro lado, na moagem de placas de alumina, a pressão de moagem é distribuída uniformemente na superfície das partículas, as partículas não são facilmente quebradas e a resistência ao desgaste é melhorada, melhorando assim a eficiência de moagem e o acabamento superficial.
Para materiais semicondutores, como wafers de silício semicondutor, a aplicação de óxido de alumínio em placas pode reduzir o tempo de moagem, melhorar consideravelmente a eficiência da moagem, reduzir a perda da máquina de moagem, poupar mão-de-obra e custos de moagem e aumentar a taxa de aprovação da moagem. A qualidade é próxima da de marcas estrangeiras conhecidas.
A eficiência do trabalho de retificação do bolbo de vidro do tubo de imagem é aumentada em 3-5 vezes;
A taxa de produto qualificado é aumentada em 10-15%, e a taxa de produto qualificado de wafers semicondutores atinge mais de 99%;
O consumo de moagem é 40-40% inferior ao pó de polimento de alumina comum;
Composição química
| Químico | Valor de garantia | Valor típico |
| Al2O3 | ≥99,0% | 99,36% |
| SiO2 | <0,2% | 0,017% |
| Fe2O3 | <0,1% | 0,03% |
| Na2O | <0,6% | 0,35% |
Propriedades físicas
| Material | α-Al2O3 |
| Cor | Branco |
| Gravidade específica | ≥3,9g/cm3 |
| Dureza de Mohs | 9.0 |
Tamanhos disponíveis
| Tipo | D3(um) | D50（um） | D94 (em redor) |
| HXTA45 | 50,5-56,2 | 33-38,5 | 20,7-24,5 |
| HXTA40 | 39-44,6 | 27,7-31,7 | 18-20 |
| HXTA35 | 35,4-39,8 | 23,8-27,2 | 15-17 |
| HXTA30 | 28,1-32,3 | 19,2-22,3 | 13,4-15,6 |
| HXTA25 | 24,4-28,2 | 16,1-18,7 | 9,6-11,2 |
| HXTA20 | 20,9-24,1 | 13.1-15.3 | 8,2-9,8 |
| HXTA15 | 14,8-17,2 | 9.4-11 | 5,8-6,8 |
| HXTA12 | 11,8-13,8 | 7,6-8,8 | 4,5-5,3 |
| HXTA09 | 8,9-10,5 | 5,9-6,9 | 3,3-3,9 |
| HXTA05 | 6,6-7,8 | 4.3-5.1 | 2,55-3,05 |
| HXTA03 | 4,8-5,6 | 2,8-3,4 | 1,5-2,1 |
Aplicação do produto
1) Indústria eletrónica: retificação e polimento de wafers de silício monocristalino semicondutor, cristais de quartzo, semicondutores compostos (gálio cristalino, nano fosfatação).
2) Indústria vidreira: moagem e processamento de cristal, vidro de quartzo, ecrã de vidro para cinescópio, vidro ótico, substrato de vidro para ecrã de cristal líquido (LCD) e cristal de quartzo.
3) Indústria de revestimentos: revestimentos e cargas especiais para pulverização de plasma.
4) Indústria de processamento de metais e cerâmica: materiais cerâmicos de precisão, matérias-primas cerâmicas sinterizadas, revestimentos de alta qualidade e alta temperatura, etc.
